| 加工定制：是 | 品牌：奥地利-EVG | 型号：EVG IQAligner? 自动化紫外线纳米压印光刻系统/EVG?770 分步重复纳米压印 |
| 用途：应用于半导体光电器件、功率器件、微波器件及微电子机械系统（MEMS）、硅片凸点、化合物半导体等领域， | 订货号：111111 | 货号：111111 |
| 别名：光刻机 | 规格：200*180 | 是否跨境货源：否 |
EVG?770 Step-and-Repeat Nanoimprint Lithography System
EVG?770 分步重复纳米压印光刻系统
分步重复纳米压印光刻技术，可进行***母版制作
技术数据
EVG770是用于步进式纳米压印光刻的通用平台，可用于有效地进行母版制作或对基板上的复杂结构进行直接图案化。这种方法允许从50 mm x 50 mm的小模具到300 mm基板尺寸的大面积均匀复制模板。与钻石车削或直接写入方法相结合，分步重***印通常用于有效地制造晶圆级光学器件制造或EVG的SmartNIL工艺所需的母版。
EVG770的主要功能包括***的对准功能，完整的过程控制以及可满足各种设备和应用需求的灵活性。
特征
高效的晶圆级光学微透镜主制造，直至SmartNIL?的纳米结构
简单实施不同种类的大师
可变抗蚀剂分配模式
分配，压印和脱模过程中的实时图像
用于压印和脱模的原位力控制
可选的光学楔形误差补偿
可选的自动盒带间处理
技术数据
晶圆直径（基板尺寸）100至300毫米
解析度≤50 nm（分辨率取决于模板和工艺）
支持流程：柔软的UV-NIL
曝光源：大功率LED（i线）> 100 mW /cm?
对准：顶侧显微镜，用于实时重叠校准≤±500 nm和精细校准≤±300 nm
***印刷模具到模具的放置精度：≤1微米
有效印记区域：长达50 x 50毫米
自动分离：支持的
前处理：涂层：液滴分配（可选）
IQ Aligner? Automated UV Nanoimprint Lithography System
IQAligner? 自动化紫外线纳米压印光刻系统
用于晶圆级透镜成型和堆叠的高精度UV压印系统
技术数据
IQ Aligner UV-NIL系统允许使用直径从150 mm至300 mm的压模和晶片进行微成型和纳米压印工艺，非常适合高度平行地制造聚合物微透镜。该系统从从晶圆尺寸的主图章复制的软性图章开始，提供了混合和整体式微透镜成型工艺，可以轻松地将其与工作图章和微透镜材料的各种材料组合相适应。此外，EV Group提供合格的微透镜成型工艺，包括所有相关的材料专业知识。
EV Group***卡盘设计可为高产量大面积印刷提供均匀的接触力。配置包括从压印基材上释放邮票的释放机制。
特征
用于光学元件的微成型应用
用于全场纳米压印应用
三个独立控制的Z轴，可在印模和基材之间实现***楔形补偿
三个独立控制的Z轴，用于压印抗蚀剂的总厚度变化（TTV）控制
利用柔软的印章进行柔软的UV-NIL工艺
EVG***全自动浮雕功能
抵抗分配站集成
粘合对准和紫外线粘合功能
IQ对准器
技术数据
晶圆直径（基板尺寸）150至300毫米
解析度≤50 nm（分辨率取决于模板和工艺）
支持流程：柔软的UV-NIL，镜片成型
曝光源：汞光源
对准：≤±0.5微米
自动分离：支持的
前处理
涂层：水坑点胶（可选）
迷你环境和气候控制
可选的：
工作印章制作：支持的；
