| 加工定制：是 | 品牌：奥地利-EVG | 型号：EVG ComBond?自动化的高真空晶圆键合系统 |
| 用途：键合工艺被认定为MEMS领域的标准工艺。EVG键合系统可实现阳极键合、热压键合、中间层粘着键合、 玻 | 订货号：111111 | 货号：111111 |
| 别名：键合设备 | 规格：200*180 | 是否跨境货源：否 |
ComBond?Automated High-Vacuum Wafer Bonding System
ComBond?自动化的高真空晶圆键合系统
高真空晶圆键合平台促进“任何物上的任何东西”的共价键
EVG ComBond高真空晶圆键合平台标志着EVG独特的晶圆键合设备和技术产品组合中的一个新里程碑，可满足市场对更复杂的集成工艺的需求。 EVG ComBond支持的应用领域包括***的工程衬底，堆叠的太阳能电池和功率器件到高端MEMS封装，高性能逻辑和“超越CMOS”器件。
EVG ComBond系统的模块化集群设计提供了高度灵活的平台，可以针对研发和高通量，大批量制造环境中的各种苛刻的客户需求量身定制。 EVG ComBond促进了具有不同晶格常数和热膨胀系数（CTE）的异质材料的粘合，并通过其独特的氧化物去除工艺促进了导电键界面的形成。 EVG ComBond高真空技术还可以实现铝等金属的低温粘合，这种金属可以在周围环境中快速重新氧化。对于所有材料组合，都可以实现无空隙和无颗粒的粘结界面以及***粘结强度。
特征
高真空，对齐，共价键合
在高真空环境（<5·10-8 mbar）中进行处理
原位亚微米面对面对准精度
高真空MEMS和光学器件封装原位表面和原生氧化物去除
优异的表面性能
导电结合
室温过程
多种材料组合，包括金属（铝）
无应力粘结界面
高粘结强度
用于HVM和R＆D的模块化系统
多达六个模块的灵活配置
基板尺寸为200毫米
完全自动化
技术数据
真空度：处理：<7E-8 mbar；处理：<5E-8毫巴
集群配置
处理模块：最小 3， 6
加载：手动，卡带，EFEM
可选的过程模块：
键合模块
ComBond?激活模块（CAM）
烘烤模块
真空对准模块（VAM）
晶圆直径：高达200毫米；
GEMINI? Automated Production Wafer Bonding System
GEMINI?自动化生产晶圆键合系统
集成的模块化大批量生产系统，用于对准晶圆键合
GEMINI自动化生产晶圆键合系统可实现水平的自动化和过程集成。批量生产的晶圆对晶圆对准和200毫米（300毫米）的晶圆键合工艺都在一个全自动平台上执行。器件制造商受益于产量增加，集成度高以及阳极，硅熔融，热压和共晶键合等多种键合工艺方法。
特征
全自动集成平台，用于晶圆对晶圆对准和晶圆键合
底部，IR或SmartView对齐的配置选项
多个粘接室
晶圆处理系统与键卡盘处理系统分开
带有交换模块的模块化设计
结合了EVG精密对准仪和EVG?500系列系统的所有优势
与独立系统相比，占用空间最小
可选的过程模块：
LowTemp?等离子活化
晶圆清洗
外套模块
紫外线粘合模块
烘烤/冷却模块
对齐验证模块
技术数据
加热器尺寸：150、200、300毫米
装载室5
轴机器人
绑定模块：4；
预处理模块
200毫米：4
300毫米：6
