| 产品特性：ALD | 加工定制：是 | 品牌：PICOSUN |
| 型号：PICOSUN原子层沉积系统ALD | 用途：PICOSUN原子层沉积系统ALD | 订货号：PICOSUN原子层沉积系统ALD |
| 货号：PICOSUN原子层沉积系统ALD | 别名：PICOSUN原子层沉积系统ALD | 规格：PICOSUN原子层沉积系统ALD |
| 是否跨境货源：否 |
PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200 Pro
（PICOSUN? ALD R-200 S Pro）
原子层沉积系统（ ALD P-200）
名称：原子层沉积系统 产地：芬兰
Picosun简介
Picosun是yi家全球公司，Picosun的总部位于芬兰的Espoo，其生产设施位于芬兰的Masala（Kirkkonummi）。PICOSUN?ALD设备专为高产量和高产量而设计，并且不断发展以提高效率。Picosun适应性强其客户包括zui 大的电子制造商，小型的创新型挑战者以及全球ling先的大学。 Picosun的组织机构和种类繁多的ALD解决方案都可以满足每个客户的需求。PICOSUN?研发工具具有独特的内置可扩展性，可确保将研究结果平稳过渡到大批量工业制造中，而不会出现技术差距。Picosun的热情在于创新。当您想与设备制造商共同创建定制的ALD解决方案，从而引ling行业发展时，Picosun是您的合作伙伴。
PICOSUN? P系列量产ALD系统定义了高产量ALD的新时代。我们全自动化、真空集群与产线兼容的P系列ALD确保了zui大的产出效率，并且具有的工艺纯度和薄膜均匀性，甚至能完全满足具有zui严格要求的半导体行业标准。PICOSUN? P系列ALD高效紧凑的设计节约了昂贵的场地成本，系统的易维护性减少了停工期。对于系统的维护、工艺故障的排除，我们为客户提供专业的售后服务Picosupport?。根据用户的需求，确保每时每（24/7/365）快速提供全面的解决方案。在购买之前，我们提供做样服务，确保系统具有zui好的性能，完全满足您的需求。
技术指标
衬底尺寸和类型 | 50 – 200 mm /单片 |
156 mm x 156 mm 太阳能硅片 | |
150 mm x 150 mm 显示面板 | |
工艺温度 | 50 - 500 °C , 可选更高温度 |
基片传送选件 | 气动升降（手动装载） |
半自动装载，用PICOPLATFORM?200集群系统实现 | |
25片晶圆盒对盒式全自动装载（cassette-to-cassette），用PICOPLATFORM?200集群系统实现 | |
标准 | SEMI S2 认证（认证中） |
前驱体 | 液态, 固态, 气态, 臭氧源, 等离子体（zui多4路气体）： |
前驱源余量传感器，并提供清洗和装源服务 | |
6根独立源管线，zui多加载12个前驱体源（加上Plasma管路，共7根独立源管线） | |
重量 | 790 kg |
尺寸 (W x H x D) | 160 cm x 80 cm x 240 cm |
可选件 | 集群工具, PICOFLOW? 扩散增强器, 集成椭偏仪, QCM, RGA, N2发生器，尾气处理器，定制设计，与 工厂软件连接服务。 |
验收标准 | 标准设备验收标准为 Al2O3 工艺， |
其他工艺可具体协商：其他工艺、应用具体验收标准如： | |
--不均匀性 | |
--颗粒物含量 | |
--重金属污染 | |
--电学性能 |
应用领域
PICOSUN? 200mm 生产线上的产品是200mm以下晶圆的自动化、高产量的工业ALD加工设备。包括PICOSUN? P系列Pro ALD设备。该工具可以独立工作，也可以集成到PICOPLATFORM?200真空集群系统以达到更高的产量和自动化水平。为了节约昂贵的设施空间，所有PICOSUN?的ALD系统有着紧凑，高效的设计。集成的专业机柜，装载着前驱体和电子元件，***了快速简便的维护和zui短的停机时间。PICOSUN? P系列Pro工具***了zui大产能以及zui节约成本的情况下得到***的ALD工艺质量，并履行严格的现代半导体产业的生产力和安全要求。
