| 加工定制：否 | 品牌：TRYMAX | 型号：TRYMAX 等离子除胶机 型号：NEO系列 |
| 用途：TRYMAX 等离子除胶机 型号：NEO系列 | 订货号：1111111 | 货号：111111 |
| 别名：清洗机、去胶机、活化机 | 规格：111 | 是否跨境货源：否 |
TRYMAX 等离子除胶机
型号：NEO系列
TRYMAX
亚科电子的合作伙伴Trymax公司于2003年在荷兰成立，该公司主要提供半导体等离子清洗、去胶、活化设备。
Trymax目前拥有半自动、全自动系列设备供用户选择，目前已有上百台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统、微流体器件、SOI基片制造、***封装、化合物半导体器件、功率器件和光电显示等领域。
一、设备工作原理
等离子体是物质的一种存在状态，该状态中存在下列物质：处于高速运动状态的电子；处于激活状态的中性原子、分子、原子团（自由基）；离子化的原子、分子；未反应的分子、原子等，但物质在总体上仍保持电中性状态。
Trymax NEO Series就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，通过射频/微波电源在一定的真空条件下起辉产生高能量的无序的等离子体，通过等离子体轰击被清洗产品表面，从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。
二、Trymax NEO Series 应用
前道：Light Etching；Descum strip；PR Ashing；离子注入后，光刻后，镀膜前等工艺过程； 后道/***封装/3D IC：Descum Bumping；MEMS；Plasma Treatment；Wafer Cleaning等。
Trymax ***等离子灰化和蚀刻 NEO300A/NEO200A系列平台
NEO300A系列平台是Trymax半导体设备***的NEO系列***等离子灰化和蚀刻产品的***成员之一。
它是一个全自动的单室系统，可配置任何现有的Trymax NEO工艺模块，并与直径达300mm的基板兼容。占地面积小的NEO300A配置有单个装载端口。
?特征
- 300毫米晶圆尺寸/基板尺寸
- 桥梁工具能力200-300mm
- 单个SMIF装载端口
-3轴双臂机器人处理
-4个不同的处理模块：
?下游微波（2.45 GHz）
?射频偏压（13.56MHz）
?双源（微波，射频偏压）
?DCP（RF偏置，直接耦合等离子）
- 优异的均匀性和可重复性
- 机械吞吐量> 100wph
- 紧凑的足迹
- 非常低的拥有成本
- 完全数字控制，Devicenet以太网
- 基于窗口的工业计算机
?应用程序
- 阻挡条带
-Descum处理
- 去除聚合物
- 邮寄高剂量植入带
- 氮化硅蚀刻应用
-MEMS应用程序
- 封装加工（PR，PI，BCB，PBO）
NEO200A系列平台是Trymax半导体设备***的NEO系列***灰化和蚀刻产品的***成员。
它是一个全自动的单室系统，可配置任何现有的Trymax NEO工艺模块，并与直径达200mm的基板兼容。占地面积小的NEO200A配置有双盒式磁带。
?特征
- 200 mm晶圆尺寸/基板尺寸
- 双盒式平台
-3轴双臂机器人处理
-4个不同的处理模块：
?下游微波（2.45 GHz）
?射频偏压（13.56MHz）
?双源（微波，射频偏压）
?DCP（RF偏置，直接耦合等离子）
- 优异的均匀性和可重复性
- 机械吞吐量> 100wph
- 紧凑的足迹
- 非常低的拥有成本
- 完全数字控制，Devicenet以太网
- 基于窗口的工业计算机
?应用程序
- 阻挡条带
-Descum处理
- 去除聚合物
- 邮寄高剂量植入带
- 氮化硅蚀刻应用
-MEMS应用程序
- 封装加工（PR，PI，BCB，PBO）
Trymax Semiconductor Equipment的NEO200系列***等离子灰化/蚀刻系统是***的光刻胶和蚀刻设备，以惊人的价格提供***的性能。专为200 mm基板应用而设计。
它配备了一个灵活的装载站，可配置用于处理200 mm的所有不同尺寸的基板。
NEO200系列集成了研究和设备制造商紧凑设计的所有要求，可实现***的拥有成本。
?特征
- 200 mm晶圆尺寸/基板尺寸
- 用于半自动晶圆传输的单个装载平台。
-4个不同的处理模块：
?下游微波（2.45 GHz）
?射频偏压（13.56MHz）
?双源（微波，射频偏压）
?DCP（RF偏置，直接耦合等离子）
- 优异的均匀性和可重复性
- 紧凑的足迹
- 非常低的拥有成本
- 完全数字控制，Devicenet以太网
- 基于窗口的工业计算机
?应用程序
- 阻挡条带
-Descum处理
- 去除聚合物
- 邮寄高剂量植入带
- 氮化硅蚀刻应用
-MEMS应用程序
- 封装加工（PR，PI，BCB，PBO）
