| 产品特性：EBL | 加工定制：是 | 品牌：电子束光刻系统 |
| 型号：电子束光刻系统EBL (E-Beam Lithography) 电子束直写系统 | 用途：电子束光刻系统EBL (E-Beam Lithography) 电子束直写系统 | 订货号：电子束光刻系统EBL (E-Beam Lithography) 电子束直写系统 |
| 货号：电子束光刻系统EBL (E-Beam Lithography) 电子束直写系统 | 别名：电子束光刻系统EBL (E-Beam Lithography) 电子束直写系统 | 规格：电子束光刻系统EBL (E-Beam Lithography) 电子束直写系统 |
| 是否跨境货源：否 |
eLINE Plus被广泛用于大学和研究中心，该系统有很多多功能附件可供用户选择，满足用户对电子束光刻机多功能性的要求。
除具有专业的电子束光刻及成像功能，eLINE Plus还***集成了纳米操纵设备，如纳米探针、用于聚焦电子束诱导过程的气体注入系统等各种多功能选件，这使得eLINE Plus成为世界上独特的、用途广泛的电子束光刻系统。
纳米工程、纳米操纵，及聚焦电子束诱导过程
00001. ***的热场发射电子光学柱，可得到的小束斑尺寸
00002. 开放的可升级的平台理念
00003. 广泛的纳米加工工艺
00004. 多种探测器，可灵活地实现对准标记识别、成像，及材料分析方面的应用
00005. 独特的无写场拼接的直写模式（traxx /periodixx）
00006. Raith NanoSuite软件: 集所有模块于一体的综合软件界面
可扩展的科研工具理念
eLINE Plus具有模块可扩展的科研工具理念，用户可任意时间升级各种模块，使该系统适用于纳米研究中热门的研究方向。eLINE Plus从传统的电子束应用领域，扩展成为多功能的系统，打开了跨学科研究的大门。
eLINE Plus具有的小束斑尺寸（1.6nm）,在前沿的高分辨纳米加工中，不论是纳米曝光还是其他聚焦电子束诱导过程中都展现出***的优异性能。
