| 产品特性：EBL | 加工定制：是 | 品牌：电子束光刻系统 |
| 型号：电子束光刻系统EBL (E-Beam Lithography) 电子束直写系统 | 用途：电子束光刻系统EBL (E-Beam Lithography) 电子束直写系统 | 订货号：电子束光刻系统EBL (E-Beam Lithography) 电子束直写系统 |
| 货号：电子束光刻系统EBL (E-Beam Lithography) 电子束直写系统 | 别名：电子束光刻系统EBL (E-Beam Lithography) 电子束直写系统 | 规格：电子束光刻系统EBL (E-Beam Lithography) 电子束直写系统 |
| 是否跨境货源：否 |
PIONEERTM 集成了电子束曝光及成像分析双功能，是高校和科研人员的理想选择。从理念上，PIONEER Two是一个全新的独特的设备，真正意义上实现了电子束曝光和成像的***结合。
PIONEER Two将专业电子束曝光设备和电子成像系统所有的***性能，融合成一套独立的成套系统。多功能性、稳定性、用户友好性操作，使PIONEER Two系统适合于不仅追求纳米结构的制作及再观察功能，且需要材料及生命科学领域中对化学成分及结构进行分析的所有用户。
电子束曝光及成像
00001. 集成***的热场发射电子光学柱(TFE, Gemini电子光学柱) 技术，实现专业电子束曝光系统领域中的小束斑尺寸(1.6 nm)
00002. 专业的电子束曝光系统中集成样品架旋转倾斜模块的激光干涉控制样品台，保留了电子成像设备的所有功能，实现高精度的定位
00003. 模块化设计和高性价比，可满足所有科研预算：可根据应用的具体需求添加选件，以提高曝光速度、自动化程度，及成像分析功能
00004. 实现真正意义的多用户管理功能：用户登陆到自己的界面进行图形编辑、工艺流程控制、参数文件管理等操作，就像使用自己的电脑一样简单方便
00005. 各种可选择的探测器(ET-SE, inlens SE, inlens EsB, AsB, EDX ...) ，以实现电子束曝光中的对准标记识别、成像及分析等多种功能
00006. 小巧紧凑的系统架构
远优于SEM加图形发生器的改造系统
PIONEER Two是从扫描电镜加图形发生器的改造系统到专业的电子束曝光系统之间的过度设备，相比于***的带有第三方图形发生器及压电工作台的扫描电镜，PIONEER Two是一款高性价比的成套的电子束曝光系统，其设备的集成、技术服务支持等都由一家值得信任的供应商提供。
集成专业EBL系统***的高精度激光干涉控制样品台技术， PIONEER Two 可实现EBL系统所***的曝光参数，远优于SEM加图形发生器的改造电子束曝光设备。
